МАКСИМАЛЬНАЯ ЗАГРУЗКА 1×Ø100мм 1×Ø150мм
КАМЕРА РОСТА Предельный вакуум в ростовой камере  <5∙10-11мм.рт.ст 10 или 12 портов для установки молекулярных источников материалов с заслонками Расход жидкого азота при циклической работе менее 20-25л/ч*	ИСТОЧНИКИ   Вентильные источники As, Sb, P Газовый инжектор CBr4 с возможностью нагрева Плазменный источник N2 Молекулярные источники с однозонным нагревом тигля Молекулярные источники Al, Ga, In и др. с двузонным нагревом тигля (конического или SUMO типа) Молекулярные источники легирующих компонентов Si, Be, Mg и др.
КАМЕРА ЗАГРУЗКИ Автоматическая загрузка Порт быстрой загрузки со смотровым окном Накопитель держателей подложки на 8 позиций Система предварительного отжига держателей Перчаточный бокс инертной атмосферы, совмещённый с портом быстрой загрузки	РОСТОВОЙ МАНИПУЛЯТОР Высокотемпературный нагреватель PBN/PG/PBN с высокой динамикой нагрева и охлаждения Нагрев подложки до 1200oC Возможность изменения ростовой геометрии Вращение держателя подложки со скоростью до 1 об/с
КАМЕРА ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ   ПОДГОТОВКИ Промежуточный накопитель держателей подложки на 7 позиций Высокотемпературный нагреватель PBN/PG/PBN с высокой динамикой нагрева и охлаждения Нагрев подложки до 650oC Водяное охлаждение	ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА   Основная азотная криопанель, окружающая зону роста и источники материалов Дополнительная криопанель, окружающая ростовой манипулятор Система откачки, сконфигурированная с учетом применения установки (сверхвысоковакуумный криогенный, ионный, турбомолекулярный (в т.ч. коррозионно-стойкое исполнение), форвакуумный спиральный насосы) Вакуумметр Байярда-Альперта Датчик Пирани
СРЕДСТВА АНАЛИТИКИ Система дифракции быстрых электронов (RHEED) с видеокамерой высокого разрешения Анализатор остаточной атмосферы Инфракрасный оптический пирометр Лазерный интерферометр Датчик потока Байярда-Альперта	СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ Специализированное ПО Контроль параметров процесса в реальном времени Дистанционное управление перемещениями манипулятора Визуализация всех параметров управления и контроля в виде графиков

*при использовании фазового сепаратора в зависимости от количества работающих эффузионных источников, температуры подложки, а также режима работы и др. факторов