Автоматизированная система электронно-лучевого напыления STE EB71

Главная Каталог продукции Установки физического осаждения Установки электронно-лучевого напыления

STE EB71 Автоматизированная установка электронно-лучевого напыления в высоком вакууме

Установка STE EB71 предназначена для напыления высококачественных тонкопленочных композиций в высоком и сверхвысоком вакууме.

Конструкция установки обеспечивает оптимизацию расхода материала за счет изменения расстояния от испарителя до пластины. Специально разработанная технология "маски" обеспечивает высокую однородность напыляемого материала.

Установка ориентирована как на интенсивные исследования и разработки (R&D), так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе производственно-технологической линии.

6×∅2”
3×∅3”
1×100мм
1×150мм
1×200мм

КАМЕРА НАПЫЛЕНИЯ

Предельный вакуум в камере напыления
до 2∙10^-9мм рт.ст

Электронно-лучевой испаритель

До 8×7см³/4×15см³рабочих ячеек испарителя

Нагрев пластин

Регулируемое расстояние от испарителя до пластины 350÷500мм

Водоохлаждаемый кварцевый толщиномер

ШЛЮЗОВАЯ КАМЕРА

Камера дверного типа

Ионный источник*

Терморезистивный испаритель*

ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА

Система откачки, сконфигурированная с учетом применения установки (ионный, турбомолекулярный, форвакуумный спиральный насосы)

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

Автоматизация технологического процесса

Программирование и сохранение технологических рецептов

*опция

Напыление высококачественных тонкопленочных композиций
Оптимизация расхода материала за счет изменения расстояния от испарителя до пластины
Улучшенная однородность наносимого материала благодаря специально разработанной технологии «маски»