Установки электронно-лучевого напыления позволяют получать тонкие пленки металлов (Ti, Al, Ni, Au, V, Mo, Zn, Cr и др.), диэлектриков и полупроводниковых материалов в высоком и сверхвысококом вакууме.

Специально разработанная технология "маски" обеспечивает высокую однородность напыляемых тонких пленок, а широкая библиотека стандартных технологических рецептов позволяет быстро начать как опытное производство, так и серийный выпуск приборов с заданными характеристиками.