language

STE75 Универсальная компактная установка молекулярно-лучевой эпитаксии

STE75 - универсальная компактная технологическая платформа для выращивания полупроводниковых гетероструктур на основе соединений A3B5, A2B6 или A3N на подложках до Ø3’’.

Установка специально создана для проведения научных исследований и разработок, учитывает максимальные возможности для пользователей по in-situ аналитике процесса роста гетероструктур. 

Конструкция универсальной платформы обеспечивает широкий спектр решаемых задач при одновременно низких эксплуатационных издержках и минимальной занимаемой площади.

МАКСИМАЛЬНАЯ ЗАГРУЗКА

 

  • 1×Ø3’’

 

 

 

 

КАМЕРА РОСТА

 

  • Предельный вакуум в ростовой камере  <5∙10-11мм.рт.ст
  • 10  портов для установки источников материалов  с заслонками, а также 4 порта для средств in-situ аналитики процесса без заслонок
  • Расход жидкого азота при циклической работе менее 10-15л/ч*

ИСТОЧНИКИ

 

  • Вентильные источники As, Sb, P
  • Газовый инжектор NH3 или CBr4 с возможностью нагрева
  • Плазменный источник N2
  • Молекулярные источники с однозонным нагревом тигля
  • Молекулярные источники Al, Ga, In и др. с двузонным нагревом тигля (конического или SUMO типа)
  • Молекулярные источники легирующих компонентов Si, Be, Mg и др. 

КАМЕРА ЗАГРУЗКИ

 

  • Ручная загрузка
  • Накопитель держателей подложки на 3 позиции
  • Перчаточный бокс инертной атмосферы, совмещённый с портом быстрой загрузки

 

РОСТОВОЙ МАНИПУЛЯТОР

 

  • Высокотемпературный нагреватель PBN/PG/PBN с высокой динамикой нагрева и охлаждения
  • Нагрев подложки до 1200oC
  • Вращение держателя подложки со скоростью до 1 об/с

 

КАМЕРА ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ


ПОДГОТОВКИ

 

  • Промежуточный накопитель держателей подложки на 6 позиций
  • Высокотемпературный нагреватель PBN/PG/PBN с высокой динамикой нагрева и охлаждения
  • Нагрев подложки до 800 oC
  • Водяное охлаждение

 

ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА

 

 

 

  • Единая азотная криопанель
  • Система откачки, сконфигурированная с учетом применения установки (криогенный, сублимационный, ионный, турбомолекулярный (в т.ч. коррозионно-стойкое исполнение), форвакуумный спиральный насосы)
  • Датчик Байярда-Альперта
  • Датчик Пирани

 

СРЕДСТВА АНАЛИТИКИ

 

  • Система дифракции быстрых электронов (RHEED) с видеокамерой высокого разрешения
  • Анализатор остаточной атмосферы
  • Инфракрасный оптический пирометр
  • Лазерный интерферометр

 

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

 

  • Специализированное ПО
  • Контроль параметров процесса в реальном времени
  • Дистанционное управление перемещениями манипулятора
  • Визуализация всех параметров управления и контроля в виде графиков

 

*при использовании фазового сепаратора в зависимости от количества работающих эффузионных источников, температуры подложки, а также режима работы и др. факторов

  • Широкий спектр R&D применений
  • 14 портов для установки молекулярных источников и in-situ аналитики
  • Пониженный расход жидкого азота
  • Компактная занимаемая площадь
  • Возможность встраивания в кластер