language

STE RTP150 Установка быстрой температурной обработки

Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме и управляемой газовой среде

Водоохлаждаемая алюминиевая конструкция камеры позволяет проводить процессы температурной обработки при экстремально высоких температурах (до 1300°С) в сочетании с длительным временем отжига. 

МАКСИМАЛЬНАЯ ЗАГРУЗКА

 

  • 1×Ø150мм

КАМЕРА-РЕАКТОР

 

  • Нагреватель на основе системы галогеновых ламп
  • Тепловыравнивающий графитовый или кварцевый столик
  • Предельное остаточное давление в реакторе <10 мм рт.ст.
  • Разделение рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца
  • Максимальная температура нагрева до 1300°С
  • Контроль температуры нагрева с помощью термопары и пирометра

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

 

  • Автоматизация технологического процесса
  • Программирование и сохранение технологических рецептов

 

  • Однородность нагрева ±2%
  • Максимальная скорость нагрева 30°С/с с графитовым столиком либо 150°С/с с кварцевым столиком
  • Высокая воспроизводимость параметров от процесса к процессу
  • Программирование нескольких стадий процесса отжига