language

STE RTA100 Установка быстрого температурного отжига

Установка для проведения процессов быстрого температурного отжига в инертной среде

Установка специально разработана для проведения кратковременных процессов с максимальной температурой на пластине до 1000°С в инертной среде. Установки широко применяются для отжига вплавных омических контактов в состааве отечественных производственных линий по выпуску электронной компонентной базы на основе материалов A3B5.

МАКСИМАЛЬНАЯ ЗАГРУЗКА

 

  • 1×Ø100мм

КАМЕРА-РЕАКТОР

 

  • Нагреватель на основе системы галогеновых ламп
  • Тепловыравнивающий графитовый или кварцевый столик
  • Предельное остаточное давление в реакторе <10 мм рт.ст.
  • Разделение рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца
  • Максимальная температура нагрева до 1000°С
  • Контроль температуры нагрева с помощью термопары и пирометра

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

 

  • Автоматизация технологического процесса
  • Программирование и сохранение технологических рецептов

 

  • Однородность нагрева ±2%
  • Максимальная скорость нагрева 30°С/с с графитовым столиком либо 150°С/с с кварцевым столиком
  • Высокая воспроизводимость параметров от процесса к процессу
  • Программирование нескольких стадий процесса отжига

График воспроизводимости режима нагрева

 

Однородность нагрева на пластине Ø100мм