Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме, управляемой газовой среде, в том числе восстановительной или окислительной атмосфере

Специальная конструкция камеры, выполненной из алюминия, позволяет проводить процессы температурной обработки при экстремально высоких температурах (до 1300°С) в сочетании с длительными временем отжига (до 60 мин). Установка ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной
производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм.

Одной из отличительных особенностей конструкции STE RTP150 является разделение рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца. Нагреватель, представляющий собой систему
линейных галогеновых ламп, находится вне реактора и нагревает графитовый столик извне рабочей камеры через установленное в ней кварцевое окно. Нагреватель позволяет проводить процессы с максимальной температурой до 1300°С и максимальной скоростью достижения заданной температуры 150°С/сек. Водоохлаждаемая алюминиевая конструкция камеры позволяет проводить длительные процессы отжига. Благодаря надежной герметизации, камера предусматривает предварительное вакуумирование с последующим напуском рабочего газа.