Система магнетронного распыления STE MS150

Главная Каталог продукции Оборудование планарных технологий Установки магнетронного распыления

STE MS150 Универсальная система магнетронного распыления

Универсальная высоковакуумная система для напыления тонких плёнок металлов и диэлектриков методом магнетронного распыления

Благодаря гибкой конфигурации и специально разработанной конструкции нагревателя установка STE MS150 дает возможность проводить процессы напыления пленок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре до 900^°С на подложки диаметром до 150 мм. Возможно увеличение размера подложки до 200 мм (опция).

• до 3-х магнетронных источников с мишенями ∅76,2 мм
• процессные газы: Ar, H₂, O₂, N₂
• магнетронные источники располагаются на гибком кронштейне и могут быть сфокусированыв одну точку (конфокальная геометрия) для обеспечения режима соосаждения
• единая заслонка магнетронных источников либо индивидуальные заслонки для каждого магнетрона (опция)
• возможность установки электронно-лучевого и/или терморезистивного испарителей, а также источника для ионной очистки подложек (опции)

• многофункциональная гибкая конфигурация вакуумной камеры, позволяющая использовать источники физического осаждения различного типа в сочетании с высокотемпературным нагревом пластины
• магнетронное осаждение многокомпонентной тонкой плёнки из 2-3 магнетронов одновременно
• напыление одного материала из 2-3 магнетронов для обеспечения максимальной однородностина подложках ∅100 мм и ∅150 мм в режиме вращения пластины
• возможное переконфигурирование установки с установкой до 7 магнетронов для последовательного напыления материалов c использованием карусели

Предельное остаточное давление в реакторе, мм.рт.ст.	<1х10^-7 (<1х10^-8 в UHV исполнении)
Время достижения предпроцессного вакуума (<5×10^-6 мм.рт.ст.) после вскрытия реактора на атмосферу при использовании ТМН 550 л/си спирального насоса 35 м³/ч, не более (мин)	20
Диапазон скоростей вращения карусели в процессе напыления, об/мин	0÷20
Максимальная температура нагрева подложки, °С	900
Производительность системы откачки: – турбомолекулярный насос, л/c – сухой спиральный насос, м³/ч	550 35