language

Наша история

2001-2002

Проведена глубокая модернизация установок МЛЭ, выпускавшихся в СССР 

 

2003-2004    


Разработана специализированная установка молекулярно-лучевой эпитаксии ЭПН3,  
предназначенная для выращивания нитридов III группы

2005-2006

 
Успешно завершены испытания экспериментального образца установок  МЛЭ новой серии STE (обеспечивающей получение наногетероструктур на основе соединений А 3 В 5 и Si-Ge), что положило начало серийному выпуску установок МЛЭ.

2006-2007


Выпущены первые модели установок планарного цикла: плазмохимического травления, электронно-лучевого напыления, термической обработки

2007-2008 


Разработана новая установка МЛЭ STE3532, сконфигурированная для роста материалов А 3 В 5 .

2008-2009


Разработан и изготовлен первый двухреакторный комплекс STE3526 сконфигурированный для выращивания гибридных наногетероструктур А 3 В 52 В 6 с учетом последних достижений в области МЛЭ полупроводников в данных системах материалов

2009-2010


Инфраструктурный проект с участием ЗАО «НТО» одобрен ОАО «РОСНАНО». Заключен контракт соднойиз ведущих индийских лабораторий системы МО - DRDO (Defense Research and Development Organization) физики твердого тела, SSPL, NewDelhi, на поставку установки STE3N2 с плазменным источником.

2011-2012


В рамках государственного контракта разработан новый комплексный продукт - Нанолаборатория. Введена в эксплуатацию Прикладная лаборатория компании.