language

Система магнетронного распыления STE MS150

Универсальная система для проведения процессов осаждения покрытий в вакууме методом магнетронного распыления

Благодаря гибкой конфигурации и специально разработанной конструкции нагревателя установка STE MS150 дает возможность проводить процессы напыления пленок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 900°С, используя магнетронные мишени в качестве источников материалов. Максимальный
диаметр подложки 150 мм. 
Конструкция установки позволяет произвести монтаж через стену чистого помещения, при этом в чистой комнате располагается интерфейс системы управления и шлюз загрузки/выгрузки держателей образцов.

• до 3-х магнетронных испарителей с мишенями 76,2 мм
• возможность использования в качестве процессных газов: Ar, H2, O2, N2
• магнетронные источники располагаются на гибком кронштейне и могут быть сфокусированы в одну точку (конфокальная геометрия) для обеспечения режима со-осаждения
• возможность установки индивидуальных заслонок для магнетроннных испарителей
• возможность установки в качестве опций электронно-лучевого и/или терморезистивного испарителей, а также источника для ионной очистки

• использование в качестве многофункциональной установки вакуумного осаждения с различными источниками для проведения исследовательских процессов
• использование для магнетронного осаждения многокомпонентных материалов из 2-3 магнетронов одновременно
• возможно переконфигурирование установки для использования до 7 магнетронов для последовательного напыления материалов
• использование одновременного напыления одного материала из 2-3 магнетронов одновременно для обеспечения максимальной однородности на подложках ∅100мм и ∅150мм

Предельное остаточное давление в реакторе

<1х10 -7 мм.рт.ст.

(<1х10-8 мм.рт.ст.в UHV исполнении) 

 Время достижение предпроцессного вакуума 5х10-6 мм.рт.ст. после вскрытия реактора на атмосферу при использовании ТМН 550 л/сек и спирального насоса 35 м 3 /час, не более

20 мин

Диапазон скоростей вращения карусели в процессе напыления

0–60 об/мин 

Переменное смещение на образец, МГц

1

Нагрев подложки, °С

900

Система откачки производительностью:
– турбомолекулярный насос, л/c
– сухой спиральный насос, м3/час


550
35